關鍵詞：基片 銦鋼 平面反射式 計量圓光柵 真空鍍膜 

摘要：為了解決目前玻璃基片計量圓光柵無法適應振動強度大、沖擊力強等惡劣環境的要求,需要改進制作計量圓光柵的基片材料。首先對光學樹脂、銦鋼等材料的特性進行比較,得出銦鋼作為基底具有制作計量圓光柵的可行性;其次,結合現有的鍍膜復制工藝,通過控制膜料質量,在蒸鍍真空度1.0×10^3Pa,蒸發距離為200mm,做出膜厚220nm的單層膜銦鋼基片;最后,參照光刻復制工藝,通過控制腐蝕時間確定線寬深度的工藝參數下制作出銦鋼基片的單層膜平面反射計量圓光柵,在50倍顯微鏡下觀察,線條陡直,用它提取出來的信號質量良好。實驗表明:制作銦鋼單層膜平面反射式計量圓光柵的工藝參數正確,為進一步廣泛應用于精密測角儀器、光柵計量設備和精確跟蹤定位設備等提供了試驗基礎。

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