坩堝下降法生長紅外砷化鎵晶體的研究

金敏; 徐家躍; 范世驥; 中慧; 何慶波; 談慧祖 中國科學院寧波材料技術與工程研究所; 浙江寧波315201; 上海應用技術大學材料科學與工程學院; 上海201418; 昆山鼎晶鎵業(yè)晶體材料有限公司; 江蘇昆山215300

關鍵詞:坩堝下降法 紅外 砷化鎵晶體 透過率 

摘要:利用坩堝下降法生長紅外砷化鎵晶體,坩堝下降爐控溫1260℃,晶體以2.5mm/h速度在溫度梯度為10℃/cm的條件下結晶生長.PBN坩堝外壁黏附有氣相自發(fā)成核、尺寸為1~3mm的砷化鎵單晶顆粒.生長的砷化鎵晶體直徑約50.8mm,總長約140mm.晶體頭部放肩階段存在異相成核,尾部出現(xiàn)多晶.截斷后獲得的砷化鎵單晶長約100mm,成晶率達70%.砷化鎵單晶結晶質量良好,頭尾平均位錯密度分別為868cm-2和1436cm-2,電阻率達10^7Ω·cm量級.砷化鎵單晶整體紅外透過率約為55%,接近最高理論透過率55.8%.滿足工業(yè)界使用要求.

上海應用技術學院學報雜志要求:

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